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因此直接电镀法的出现,对于传统沉铜的缺点都能够作出极大改善,而其中由美国电化公司(Electrochemicals Inc.) 所制造的黑影制程(Shadow Process)便是众多直接金属化(Direct Metallization Process)中一门表表者。 黑影法(Shadow)最主要利用石墨(Graphite)作为导电物体。由于石墨分子结构中,有大量游离电子,因此石墨的导电性能比一般碳黑化为高。而电镀速度与涂层导电性能是成正比例的,所以涂层导电性能越高,电镀速度越快。 黑影直接金属化流程(Shadow Direct Metallization Process)简单,主要分为五个化学槽: 其中抗氧化槽更是选择性的,需视乎生产板放置时间而决定需要与否。 黑影法分别拥有水平式(Conveyor)及垂直式(Vertical)生产方式,但是由于垂直生产方式生产时间较长,不及水平式生产简单,所以本公司极力推荐黑影水平输送生产方式,以取代现时传统沉铜流程。 黑影流程化学剂种类 黑影流程 放板 SHADOW与Blackhole在工艺上其中三个个不同的地方是:1)Blackhole要过两次,SHADOW一次即可;2)SHADOW有专利的定影剂(Fixer);3)SHADOW使用GRAPHITE作导电物质,而BLACKHOLE使用碳黑; 由于以上的不同,所以可以考虑:1)为什么要过两次BLACKHOLE,而非一次?早期BLACKHOLE也是采用一次,后来改为两次。 2)SHADOW采用定影剂来控制沉积在HOLEWALL上的石墨厚度,而BLACKHOLE是采用风刀(AIR KNIFE)来控制沉积在孔壁上的碳的厚度,两者的优劣不辨自明; 3)碳黑和石墨的导电度差异是显而易见的; 当沉积在孔壁上的碳黑厚度太厚时,就会带来孔壁分离的问题,导致孔壁的信赖度有问题,特别是做Multilayer时,问题更甚。 碳的结晶体结构为 SP3,石墨的结晶体结构为SP2,所以石墨存在更多的游离p电子,自然导电度(Conductivity)也就更优。 当然,在Particle Size方面确实SHADOW比BLACKHOLE要大,BLACKHOLE为50~100 nm,SHADOW为0.6um,但石墨为片状结晶,0.6um为其宽度尺寸,其厚度为宽度的1/15即0.04um;所以在HOLEWALL的coverage方面SHADOW能达到很好的覆盖效果。另外,BLACKHOLE为溶液,SHADOW COLLOID为胶体,后者对铜离子污染容忍度较大,前者对铜离子及其它正电离子的污染较敏感,这样BLACKHOLE的Particle Size就容易超出100nm,这时工艺就难以控制。 录入时间:2007-09-30 来源:中国PCB技术网 原作者:Alex123
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